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圧延銅箔の焼鈍処理:高度な用途向けに強化された性能を引き出す

電子機器製造、再生可能エネルギー、航空宇宙などのハイテク産業では、巻銅箔銅箔は優れた導電性、展延性、滑らかな表面で高く評価されています。しかし、適切な焼鈍処理を行わないと、圧延銅箔は加工硬化や残留応力の影響を受け、使用限界が制限される可能性があります。焼鈍処理は、銅箔の微細構造を微細化する重要なプロセスです。銅箔要求の厳しい用途において、アニール処理によって特性が向上します。この記事では、アニール処理の原理、材料性能への影響、そして様々なハイエンド製品への適合性について詳しく説明します。

1. 焼鈍処理:優れた特性のための微細構造の変換

圧延工程では、銅結晶が圧縮・伸長され、転位と残留応力に満ちた繊維状構造が形成されます。この加工硬化により、硬度は上昇し、延性は低下(伸長はわずか3~5%)、導電率は約98% IACS(国際焼鈍銅規格)までわずかに低下します。焼鈍処理は、制御された「加熱・保持・冷却」のシーケンスによってこれらの問題に対処します。

  1. 加熱段階:その銅箔再結晶温度(純銅の場合は通常 200 ~ 300°C)まで加熱され、原子の動きが活性化されます。
  2. ホールディングフェーズこの温度を 2 ~ 4 時間維持すると、歪んだ粒子が分解され、サイズが 10 ~ 30 μm の新しい等軸粒子が形成されます。
  3. 冷却段階: 5°C/分以下の低速冷却速度により、新たな応力の発生を防ぎます。

裏付けデータ:

  • 焼鈍温度は結晶粒径に直接影響します。例えば、250℃では結晶粒径は約15μmとなり、引張強度は280MPaとなります。一方、温度を300℃に上げると結晶粒径は25μmに大きくなり、強度は220MPaに低下します。
  • 適切な保持時間が重要です。280℃で3時間保持すると、X線回折分析によって98%以上の再結晶化が保証されます。

2. 高度な焼鈍装置:精度と酸化防止

効果的な焼きなましには、均一な温度分布を確保し、酸化を防ぐための特殊なガス保護炉が必要です。

  1. 炉の設計: マルチゾーン独立温度制御 (例: 6 ゾーン構成) により、フォイル幅全体の温度変動が ±1.5°C 以内に抑えられます。
  2. 保護雰囲気高純度窒素(≥99.999%)または窒素-水素混合物(3%-5% H₂)を導入することで、酸素レベルが5 ppm 未満に維持され、銅酸化物(酸化物層の厚さ <10 nm)の形成が防止されます。
  3. 搬送システム張力のないローラー搬送により、箔の平坦性が維持されます。先進的な垂直焼鈍炉は、最大毎分120メートルの速度で稼働し、1炉あたり1日あたり20トンの処理能力を備えています。

ケーススタディ: 非不活性ガス焼鈍炉を使用しているクライアントは、銅箔表面粗さ(酸素含有量最大50ppm)が粗く、エッチング中にバリが発生していました。保護雰囲気炉への切り替えにより、表面粗さ(Ra)は0.4μm以下となり、エッチング歩留まりは99.6%に向上しました。

3. 性能向上:「工業原料」から「機能性材料」へ

焼鈍銅箔大幅な改善が見られます:

財産

アニーリング前

アニーリング後

改善

引張強度(MPa) 450~500 220-280 ↓40%-50%
伸長 (%) 3-5 18~25歳 ↑400%-600%
導電率(%IACS) 97-98 100-101 ↑3%
表面粗さ(μm) 0.8~1.2 0.3~0.5 ↓60%
ビッカース硬度(HV) 120~140 80~90 ↓30%

これらの機能強化により、焼鈍銅箔は次のような用途に最適です。

  1. フレキシブルプリント回路(FPC): 伸び率が 20% を超えるこのフォイルは、100,000 回を超える動的曲げサイクルに耐え、折りたたみ式デバイスの要件を満たします。
  2. リチウムイオン電池集電装置: より柔らかい箔 (HV<90) は電極コーティング中に割れにくく、極薄 6μm 箔は重量の一貫性を ±3% 以内に維持します。
  3. 高周波基板表面粗さが 0.5μm 未満の場合、信号損失が減少し、28 GHz での挿入損失が 15% 減少します。
  4. 電磁シールド材: 101% IACS の導電性により、1 GHz で少なくとも 80 dB のシールド効果が保証されます。

4. CIVEN METAL:業界をリードする焼鈍技術の先駆者

CIVEN METAL は、アニーリング技術においていくつかの進歩を達成しました。

  1. インテリジェントな温度制御: 赤外線フィードバックを備えた PID アルゴリズムを利用し、±1°C の温度制御精度を実現します。
  2. 強化されたシーリング: 動圧補償機能を備えた二重層炉壁により、ガス消費量が 30% 削減されます。
  3. 木目方向制御: 勾配焼鈍により、長さに沿って硬度が変化し、局所的な強度差が最大 20% の箔を製造します。複雑なスタンプ部品に適しています。

検証CIVEN METAL の RTF-3 逆処理箔(ポストアニール)は、5G 基地局 PCB での使用が顧客によって検証されており、10 GHz での誘電損失が 0.0015 まで低減し、伝送速度が 12% 向上します。

5. 結論:銅箔生産における焼鈍処理の戦略的重要性

アニーリングは単なる「加熱・冷却」のプロセスではありません。材料科学と工学の高度な融合です。粒界や転位といった微細構造特性を操作することで、銅箔銅箔は「加工硬化」状態から「機能的」状態へと移行し、5G通信、電気自動車、ウェアラブル技術の進歩を支えています。CIVEN METALが開発した水素燃料炉はCO₂排出量を40%削減するなど、アニール処理プロセスがよりインテリジェントで持続可能なものへと進化するにつれ、圧延銅箔は最先端アプリケーションにおける新たな可能性を切り開く準備が整っています。


投稿日時: 2025年3月17日