[RTF]逆処理されたED銅箔
製品の紹介
RTF、逆処理された電解銅箔は、両側でさまざまな程度に粗くなった銅箔です。これにより、銅ホイルの両側の皮の強度が強化され、他の材料に結合するための中間層として使用しやすくなります。さらに、銅箔の両側のさまざまなレベルの治療により、粗層の薄い側を簡単にエッチングしやすくなります。プリント回路基板(PCB)パネルを作成する過程で、銅の処理側が誘電体に適用されます。処理されたドラム側は反対側よりも粗く、誘電体へのより大きな接着を構成します。これは、標準の電解銅よりも主な利点です。マット側は、フォトレジストの適用前に機械的または化学的処理を必要としません。それはすでに良好なラミネート抵抗の接着を持つほど粗いです。
仕様
CIVENは、12〜35µmの幅から1295mm幅の公称厚さのRTF電解銅箔を供給できます。
パフォーマンス
高温伸長を逆転させた電解銅箔は、銅腫瘍のサイズを制御し、均等に分布するための正確なメッキプロセスにさらされます。銅箔の反転した処理された明るい表面は、一緒に押された銅箔の粗さを大幅に低下させ、銅箔の十分な剥離強度を提供することができます。 (表1を参照)
アプリケーション
5Gベースステーションや自動車レーダー、その他の機器など、高周波製品や内側のラミネートに使用できます。
利点
良好な結合強度、直接多層ラミネーション、および良好なエッチング性能。また、短絡の可能性を減らし、プロセスサイクル時間を短縮します。
表1。パフォーマンス
分類 | ユニット | 1/3オンス (12μm) | 1/2オンス (18μm) | 1オンス (35μm) | |
CUコンテンツ | % | 分99.8 | |||
面積さん | g/m2 | 107±3 | 153±5 | 283±5 | |
抗張力 | RT(25℃) | kg/mm2 | 分28.0 | ||
HT(180℃) | 分15.0 | 分15.0 | 分18.0 | ||
伸長 | RT(25℃) | % | 分5.0 | 分6.0 | 分8.0 |
HT(180℃) | 分6.0 | ||||
粗さ | 光沢(ra) | μm | マックス。 0.6/4.0 | マックス。 0.7/5.0 | マックス。 0.8/6.0 |
マット(RZ) | マックス。 0.6/4.0 | マックス。 0.7/5.0 | マックス。 0.8/6.0 | ||
皮の強度 | RT(23℃) | kg/cm | 分1.1 | 分1.2 | 分1.5 |
HCφの劣化率(18%-1HR/25℃) | % | マックス。 5.0 | |||
色の変化(E-1.0HR/190℃) | % | なし | |||
はんだフローティング290℃ | 秒 | マックス。 20 | |||
ピンホール | EA | ゼロ | |||
プラペーグ | ---- | FR-4 |
注記:1.銅箔のRZ値は、保証された値ではなく、テスト安定した値です。
2。ピール強度は、標準のFR-4ボードテスト値(7628PPの5枚)です。
3。品質保証期間は、領収書の日から90日です。