グラフェン用銅箔
導入
グラフェンは、sp² ハイブリッド形成によって結合された炭素原子が 1 層の 2 次元ハニカム格子構造にしっかりと積み重ねられた新しい素材です。優れた光学的、電気的、機械的特性を備えたグラフェンは、材料科学、マイクロおよびナノ加工、エネルギー、生物医学、ドラッグデリバリーの分野での応用が大きく期待されており、将来の革新的な素材と考えられています。化学蒸着 (CVD) は、大面積グラフェンの制御された生産に最も一般的に使用される方法の 1 つです。その主な原理は、基材および触媒として金属の表面にグラフェンを堆積し、高温環境下で一定量の炭素源前駆体と水素ガスを通過させ、相互作用させることでグラフェンを得るというものです。 CIVEN METALが製造するグラフェン用銅箔は、高純度、良好な安定性、均一なウェーハと平坦な表面という特徴を有しており、CVDプロセスにおける理想的な基板材料です。
利点
高純度、良好な安定性、均一なウェーハと平坦な表面。
製品一覧
高精度RA銅箔
[HTE] 高伸びED銅箔
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